據 oltnews 援引日經亞洲新聞消息，三星周三宣布，它已經在首爾華盛市的一家 DRAM 工廠的一條生產線上部署了極紫外光刻技術（EUV），將精密內存芯片制造的生產率提高一倍。三星是第一個將這項技術用于大規模生產存儲芯片的公司，這是 20 年來生產技術的首次重新設計。

　　三星的競爭對手 SK Hynix 計劃明年在 DRAM 生產線上安裝 EUV 設備。雖然三星是第一個采用這種新工藝生產存儲芯片的公司，但英特爾和臺灣半導體制造公司此前已經在使用這種技術生產處理器了。

總結

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