在韓國華城的工廠，三星新的EUV（遠紫外線）半導體生產線已經開始量產。

網易科技訊 2月21日消息，據國外媒體報道，三星宣布，其新的EUV（遠紫外線）半導體生產線已開始大規模生產，該生產線將為客戶生產7納米或更小的芯片。

該新V1生產線位于該公司在韓國華城的工廠，是第一條專門用于EUV光刻技術的生產線。

三星表示，公司將使用7納米及以下工藝節點生產芯片。該公司還將采用7納米和6納米工藝生產移動芯片，并計劃最終生產小至3納米的芯片。

早在2018年2月，該公司就開始打造V1生產線，迄今已向其投資60億美元。

三星稱，它將加大V1生產線的產量，再加上S3生產線，其7納米或更小芯片的產量預計將比去年增加兩倍。

總結

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