當前，有實力圍繞 10nm 以下先進制程較量的廠商僅剩下 Intel、臺積電和三星三家。

　　今天（2 月 20 日），三星宣布，在韓國華城工業園新開一條專司 EUV（極紫外光刻）技術的晶圓代工產線 V1，最次量產 7nm。

　　據悉，V1 產線/工廠 2018 年 2 月動工，2019 年下半年開始測試晶圓生產，首批產品今年一季度向客戶交付。

　　目前，V1 已經投入 7nm 和 6nm EUV 移動芯片的生產工作，規劃未來可代工到最高 3nm 尺度。

　　根據三星安排，在 2020 年底前，V1 產線的總投入將達 60 億美元，7nm 以下先進工藝的總產能將是 2019 年的 3 倍。

　　三星制造業務總裁 ES Jung 博士認為，V1 產線將和 S3 產線一道，幫助公司拓展客戶，響應市場需求。

　　至此，三星在全球已有 6 家晶圓廠，1 家 8 英寸，5 家 12 英寸。三星早先表示，2030 年前累計拿出 1200 億美元夯實代工業務，成為全球領導者。

總結

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