光刻机是干什么用的 芯片制造的必须环节
去年,我國芯片的設計和生產被國外封鎖,而制造芯片的環(huán)節(jié)中光刻機是必不可少的一份,但恰恰光刻機這種東西世界上沒有幾個國家能造的出來。
光刻機是芯片制造的核心設備之一,作為目前世界上最復雜的精密設備之一,其實光刻機除了能用于生產芯片之外,還有用于封裝的光刻機,或者是用于LED制造領域的投影光刻機。目前,我國高端的光刻機,基本上是從荷蘭ASML進口的。光刻機作為工業(yè)制造之花,已經是真正高科技的象征,這個設備非常精密,沒有他芯片幾乎是制造不出來的。
簡單來說,就是在硅片上覆蓋一層具有高度光敏感性的光刻膠,再用紫外光透過掩模照射硅片,被光線照射到的光刻膠會發(fā)生化學反應。此后用特定顯影液去洗硅片上的光刻膠,就完成了把電路圖從掩模轉移到硅片上的工作,這是制造芯片中的重要一步。
光刻包括光復印和刻蝕工藝兩個主要方面:1、光復印工藝:經曝光系統(tǒng)將預制在掩模版上的器件或電路圖形按所要求的位置,精確傳遞到預涂在晶片表面或介質層上的光致抗蝕劑薄層上。
2、刻蝕工藝:利用化學或物理方法,將抗蝕劑薄層未掩蔽的晶片表面或介質層除去,從而在晶片表面或介質層上獲得與抗蝕劑薄層圖形完全一致的圖形。集成電路各功能層是立體重疊的,因而光刻工藝總是多次反復進行。例如,大規(guī)模集成電路要經過約10次光刻才能完成各層圖形的全部傳遞。
而光復印技術就是光刻機,而刻蝕工藝就是蝕刻機。目前全球最先進的荷蘭ASML公司,其在生產光刻機的過程中也需要用大量美國的技術以及美國的供應商,這也是為何美國可以阻止ASML公司將光刻機賣給中國的原因,同樣,這也是美國可以阻止全球各大芯片代工廠給中國企業(yè)生產芯片的原因,因為這些企業(yè)所使用的,大部分都是ASML的機器。
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目前光刻機在芯片領域是一個炙手可熱的設備,我國芯片發(fā)展受阻正是因為沒有先進的光科技造成的。
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總結
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