利用LC振荡器控制晶闸管开闭产生中频信号的中频感应炉
利用LC振蕩器控制晶閘管開閉產生中頻信號的中頻感應爐
一般中頻感應爐是一種將工頻50HZ交流電轉變為中頻(300HZ以上至20K HZ)的電源裝置,把三相工頻交流電,整流后變成直流電,再把直流電變為可調節的中頻電流,供給由電容和感應線圈里流過的中頻交變電流,在感應圈中產生高密度的磁力線,并切割感應圈里盛放的金屬材料,在金屬材料中產生很大的渦流。下面介紹一種利用晶閘管不斷開閉來產生中頻信號的中頻感應爐。這種中頻感應爐利用快速晶閘管形成的硅堆將工頻交流380V電壓變成直流450V電壓,在經過電抗器濾波后,經過快速晶閘管整流后,進入由電熱電容器和電感組成的LC振蕩電路。電熱電容器和電感并聯,前后端分別和兩個快速晶閘管串聯在一起。根據基爾霍夫定律這個LC振蕩電路的頻率為
f=1/2π√LC
以LC并聯電路為例,電容兩端的電壓VC等于電感兩端的電壓VL:
VC=VL
流入電容的電流等于流出電感的電流:
iC=-iL
從電路元件的本構關系可知
VL(t)=Ld iL/dt
并且
ic(t)=cdVc/dt
調換順序并進行代換得到二階微分方程
iC-iL=0
d2 Il(t)/dt2 +iL(t)/LC =0
參數w0,諧振角頻率定義為
w0=1/√LC
利用這個可以簡化微分方程
d2 Il(t)/dt2 + w20*iL(t) =0
相關多項式是
s2+w2=0
因此
s=+jw0
或者說
s=-jw0
其中j為虛數單位
也就是說
Il(t)/dt=√LC
電量q=√LC
用萬用表測量LC振蕩電路中的電感和電容的乘積的開方應該等于LC振蕩電路中電感導線上的電量。
同時要想電熱電容和電感器并聯的LC振蕩電路產生中頻振蕩電壓,必須控制快速晶閘管不斷開啟或關閉。當快速晶閘管開啟時,從電抗器出來的直流電源對電熱電容器充電,電感器上的電流變小。當快速晶閘管關閉時,從電抗器出來的電熱電容器放電電,電感器上的電流變大。這樣由于快速晶閘管不斷快速的關閉開啟,就會在電熱電器容器兩端形成一個中頻高壓電源。這個電源通過大功率電阻直接連接加熱線圈,就會使加熱線圈產生磁場,進而使加熱線圈里面的鐵料熔化。這個電源通過大功率電阻直接連接正負鎢或石墨電極,就會使正負電極兩端產生電弧,這個電弧就會使點擊周圍的鐵礦石熔化。
還要利用9013三極管和獨石電容,電感組成的LC振蕩電路產生中頻20khz的信號控制晶閘管的控制端G,這個信號控制快速晶閘管不斷開啟或關閉,就會使電熱電容和電感發生LC振蕩。
這個中頻感應爐的電路資料下載網址是:
鏈接:https://pan.baidu.com/s/1y7hY6tU-koiLJXfB3EbVEw ;
提取碼:fpld
鏈接:https://pan.baidu.com/s/1qMRgLZzXi2Wm0rxNEzu5fQ ;
提取碼:eex3,
https://share.weiyun.com/YLBIB7ez。
它的電路圖如下:
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快速晶閘管可以使用下面的方法制造。將鍺片或硅片,銻源,放入石英舟中,加熱800攝氏度,在10-5E真空環境下,將銻擴散到鍺片表面7-10微米厚度,表面濃度10的17次方厘米-3。鍺片表面的銻和鉛銻錫合金,或者和銦鎵鉛銻合金形成PN節,4個PN節合在一起就組成了一個可控硅。控制級G上面的二極管防止電壓過高進入控制端后面電路,燒壞后面電路。還可以用砷化鎵,或硅片替換鍺片。如下圖所示:
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將鍺片或硅片,銻源,放入石英舟中,加熱800攝氏度,在10-5E真空環境下,將銻擴散到鍺片表面7-10微米厚度,表面濃度10的17次方厘米-3。鍺片表面的銻和鍺片表面的砷,或銦粒表面的砷形成PN節,4個PN節合在一起就組成了一個可控硅。控制級G上面的二極管防止電壓過高進入控制端后面電路,燒壞后面電路。如下圖所示:
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用下面的方法可以制作鍺片集成電路,或三極管。也可以將鉭片壓延至15-20μm,然后用沖模壓成上圖的棋盤狀,最后用刮刀壓穿25μm、50μm長的方孔。也可以采用光刻法,制造掩膜。首先將要制備的掩膜的圖案畫在紙板上,用縮微照相術將圖片縮小照相,最后洗出膠卷,掩膜就會變小。為了防止最后洗出的有很小棋盤狀掩膜的膠片的方孔邊角不規則,需要分辨率很好的相機。將光致抗蝕劑涂抹到鍺片表面,用有微小棋盤狀的膠卷掩膜蓋在鍺片上面。用高壓汞燈產生的光線照射膠卷掩膜,透過光線的小棋盤狀方塊上面的光致抗蝕劑就會分解,這樣就會在這片表面形成棋盤狀的光致抗蝕劑。用氟化氫,硝酸,溴溶液,和水配制成腐蝕劑腐蝕沒有光致抗蝕劑的棋盤狀鍺片。再給覆蓋有棋盤狀鋁制掩膜的鍺片表面涂蠟,去掉;鋁制掩膜,沒有涂蠟的鍺片就形成棋盤狀。還可以用鋁或銻化鋁制作集成電路棋盤狀掩膜。將0.5mm厚鋁制或銻化鋁制淹膜壓緊在鍺片表面,然后在蒸發皿里面,蒸發N型砷,或P型銻。用氟化氫,硝酸,溴溶液,和水配制成腐蝕劑腐蝕沒有涂蠟的棋盤狀鍺片。
光致抗蝕劑由三種成分組成:1.抗蝕劑(聚乙烯醇肉桂酸脂)。質量分數8%。2.增感劑(硝基卮)。質量分數0.5%。3.溶劑(環已酮),質量分數91.5%。聚乙烯醇肉桂酸脂是由聚乙烯加肉桂酸經酯化反應生成的。其中起感光作用的,主要是分子團。
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分子團中的雙鍵在光照下吸收能量,把雙鍵打開產生交鍵,變成不溶于顯影液的網狀高分子化合物,它們、能抗腐蝕。加入5-硝基卮主要是增加感光性能。環已酮的毒性小,溶解力強,揮發性適宜,常用來做溶劑。另外甲基溶纖劑,乙基溶纖也可以作為溶劑劑。涂膠前要對硅片或鍺片做清潔處理,涂完感光膠,要對掩膜進行80攝氏度烘干15分鐘。曝光源通常采用80瓦高壓水銀燈產生10的8次方勒克斯秒的光強。顯影時,硅片或鍺片上沒有感光的感光膠溶解在顯影液里面。而感光部分保留下來作為腐蝕時的保護膜。丁酮和三氯化乙烯用來做顯影液效果很好。用三杯丁酮逐杯輪換,1分鐘內即可達到顯影的目的。注意顯影液要經常更換,否則顯影不干凈。顯影后,為使留下的膠膜牢固的附在硅片或鍺片上,需要在185攝氏度下進行烘烤。腐蝕二氧化硅用HF:NH4F:H20=3:6:11。腐蝕溫度一般不超過40攝氏度。還可以用NH4HF2:H20=2:3.5。腐蝕鋁應用磷酸或氫氧化鈉。1,10%氫氧化鈉水溶液里面加高錳酸鉀至飽和,溫度為25攝氏度。2.在無水亞硫酸鈉飽和溶液里加幾滴硫酸。腐蝕鎳或鉻,腐蝕液用CE2SO4)3:HNO3:H20=1:1:11,去膠,對于二氧化硅上面的膠層,可直接放在濃H2SO4中煮開。然后用去離子水清洗。
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總結
以上是生活随笔為你收集整理的利用LC振荡器控制晶闸管开闭产生中频信号的中频感应炉的全部內容,希望文章能夠幫你解決所遇到的問題。
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