一、何為光刻技術

光刻技術(Photolithography)是微電子與集成電路制備最關鍵的工藝，其作用正如英文：光（photo）——石（litho）——書寫（graphy），及利用光在芯片表面印刷出圖案樣式，以定義芯片的功能。

二、光刻技術大致流程

光刻技術的流程大致是：

1.涂膠：在硅片表面的二氧化硅薄膜涂上光刻膠（由光敏化合物等混合而成的可在特定波長光照下分解的有機溶劑）

2.前烘：烘培讓膠膜里的溶劑充分揮發

3.曝光：將掩模版（石英玻璃制成的薄片涂上鉻）吐糟光刻膠上以遮掩部分光刻膠

4.顯彰：光線照射部分的光刻膠反應分解，被掩模版遮掩的部分則保留，最終形成了掩模版的圖案

總結

以上是生活随笔為你收集整理的光刻技术简介的全部內容，希望文章能夠幫你解決所遇到的問題。

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