無掩模高精度激光直寫

特點：無掩模光刻

型號：德國海德堡DWL66+

樣品：2至8英寸，最大9英寸方形版，碎片15mm*15mm以上；

分辨率最高精度：0.3μm；

套刻精度：±0.5μm；?

激光光源：405nm，功率300mW

????????????????0.6μm和0.3μm兩種寫頭

曝光速度分別為13mm2/min和3mm2/min；

特色應(yīng)用

具備灰階三維結(jié)構(gòu)光刻功能

主要用于：光刻掩模板制備，三維凸板制備

利用強度可變的激光束對基底表面的光刻膠進行曝光，顯影得到所需要的任意圖形。

特色應(yīng)用：灰度掩模版+高精度光刻版

顯影后圖形

三維光刻圖形

總結(jié)

以上是生活随笔為你收集整理的光刻技术-无掩模高精度激光直写的全部內(nèi)容，希望文章能夠幫你解決所遇到的問題。

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