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ASML 回应:没有面向中国市场推出特别版的光刻机

發(fā)布時間:2023/12/31 综合教程 43 生活家
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7 月 6 日消息,據(jù)證券時報,針對有媒體報道 ASML 試圖規(guī)避荷蘭新銷售許可禁令,面向中國市場推出特別版 DUV 光刻機(jī)事宜,7 月 6 日午后,ASML 回應(yīng)稱:一直以來 ASML 都遵守所適用的法律條例,公司并沒有面向中國市場推出特別版的光刻機(jī)。

此前據(jù) DigiTimes 報道,ASML 試圖規(guī)避荷蘭新銷售許可禁令,面向中國市場推出特別版 DUV 光刻機(jī)。消息稱,如果該項目繼續(xù)推進(jìn),中芯國際、華虹等中國半導(dǎo)體企業(yè)可以繼續(xù)使用荷蘭的設(shè)備生產(chǎn) 28 納米及更成熟工藝的芯片。

注意到,此前荷蘭方面正式宣布了最新的決定,要求企業(yè)出口先進(jìn)設(shè)備前需要獲得許可證,新規(guī)將在 9 月 1 日生效。在荷蘭新規(guī)出臺之后,ASML 表示,根據(jù)新出口管制條例規(guī)定,該公司需要向荷蘭政府申請出口許可證才能發(fā)運最先進(jìn)的浸潤式 DUV 系統(tǒng) (即 TWINSCANNXT:2000i 及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng))。荷蘭政府將決定是否授予或拒發(fā)出口許可證,并將向 ASML 提供許可證所附條件的細(xì)節(jié)。

ASML 在聲明中重點指出,荷蘭政府新頒布的出口管制條例只涉及 TWINSCANNXT:2000i 及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng) (DUV,深紫外光刻)。而該公司的 EUV 光刻 (極紫外光刻) 系統(tǒng)在此前已經(jīng)受到限制,其他系統(tǒng)的發(fā)運暫未受荷蘭政府管控。

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總結(jié)

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