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摩尔定律不死 Intel将冲击1nm工艺:用上下一代EUV光刻机

發(fā)布時(shí)間:2023/12/15 综合教程 29 生活家
生活随笔 收集整理的這篇文章主要介紹了 摩尔定律不死 Intel将冲击1nm工艺:用上下一代EUV光刻机 小編覺得挺不錯(cuò)的,現(xiàn)在分享給大家,幫大家做個(gè)參考.

作為摩爾定律的提出者,Intel也是最堅(jiān)定的摩爾定律捍衛(wèi)者,多次表示半導(dǎo)體工藝還會(huì)繼續(xù)提升下去,在現(xiàn)有4年掌握5代CPU工藝之后,Intel還啟動(dòng)了未來兩代的CPU工藝研發(fā),目標(biāo)逼近1nm了。

Intel的5代CPU工藝分別是Intel 7、Intel 4、Intel 3、Intel 20A及Intel 18A,其中Intel 7在2021年的12代酷睿上首發(fā)了,Intel 4會(huì)在下半年的14代酷睿上首發(fā),還會(huì)首次用上EUV光刻工藝。

Intel 3是Intel 4的改良版,Intel 20A及之后的18A則是重大升級(jí),相當(dāng)于友商的2nm、1.8nm節(jié)點(diǎn),將在2024年上半年及下半年量產(chǎn),2025年將重新奪回半導(dǎo)體工藝的領(lǐng)導(dǎo)地位。

再往后呢?Intel目前的路線圖上沒有提到新的工藝,不過最新消息稱Intel已經(jīng)啟動(dòng)了未來兩代工藝的定義及研發(fā),但沒有明確的信息。

根據(jù)IMEC之前公布的芯片工藝路線圖來看,2nm工藝之后是14A,也就是1.4nm工藝,預(yù)計(jì)2026年問世,再往后就是A10工藝,也就是1nm,2028年問世。

Intel要研發(fā)的未來兩代工藝應(yīng)該也是1.4nm、1nm級(jí)別的,具體的命名還要等官方確定,畢竟時(shí)間還早。

2nm以后的工藝還要升級(jí)裝備,當(dāng)前的EUV光刻機(jī)屆時(shí)效率也不高了,ASML預(yù)計(jì)會(huì)在2026年推出High NA技術(shù)的下一代EUV光刻機(jī)EXE:5000系列,將NA指標(biāo)從當(dāng)前的0.33提升到0.55,進(jìn)一步提升光刻分辨率。

不過下代EUV光刻機(jī)的成本也會(huì)大漲,當(dāng)前售價(jià)在1.5億美元左右,下代價(jià)格輕松超過4億美元。

總結(jié)

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