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【章節概覽】

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這章介紹了如何使用可選的位移貼圖（Displacement Mapping）執行Catmull-Clark細分曲面（Catmull-Clark Subdivision Surfaces）的視圖相關的自適應鑲嵌（Adaptive Tessellation）。使用GPU進行鑲嵌計算，這可以節省圖形總線帶寬，并且比使用CPU快許多倍。

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【核心要點】

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文中通過重復細分（repeated subdivision）的方法來實現鑲嵌，通過渲染到2D紋理來實現。細分，平坦度測試（Flatness Test）和最終頂點屬性計算使用片元著色器（也稱像素著色器）完成。該方法假設細分曲面控制網格的頂點數據存儲在紋理貼圖中。中間結果也渲染到紋理貼圖并從紋理貼圖讀取，并且最終的鑲嵌結果（位置，法線等）被渲染到一個頂點數組中，以被渲染圖元（render-primitives）如glDrawElements()函數使用。

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對立方體的Catmull-Clark細分 自適應鑲嵌（Adaptive Tessellation） vs. 均勻鑲嵌（Uniform Tessellation）

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總之，這章介紹了一個結合使用廣度優先遞歸（breadth-first recursion algorithm）細分算法在GPU上鑲嵌細分表面的方法。文中描述了執行平坦度測試、實現細分和計算極限表面屬性所需的著色器。而且解釋了如何修改著色器來添加位移映射的支持，以增加細分表面模型的幾何細節。

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【關鍵詞】

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Catmull-Clark細分 （Catmull-Clark subdivision）

位移貼圖（Displacement Mapping）

平坦度測試（Flatness Test）

GPU鑲嵌（GPU Tessellation ）

自適應鑲嵌（Adaptive Tessellation）

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總結

以上是生活随笔為你收集整理的GPU Gems2 - 7 带位移映射的细分表面自适应镶嵌的全部內容，希望文章能夠幫你解決所遇到的問題。

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