半導體中，作為絕緣層的材料通常稱為什么--->介電質（dielectric）　

T/C（傳送Transfer Chamber ）的功能：提供一個真空環境，以利機器手臂在反應腔與晶舟間傳送wafer，節省時間。

MTBC：mean time between clean-->上一次Wet clean到這次Wet clean所經過的時間。

Photo的流程：上光阻—曝光—顯影—顯影后檢查—CD量測—Overlay量測

光阻（PhotoResist）：是一種感光的物質，其作用是將pattern從光罩（Reticle）上傳遞到Wafer上的一種介質，其分為正光阻和負光阻。

曝光：通過光照射光阻，使其感光。

顯影：將曝光完成后的圖形處理，以將圖形清晰的顯現出來的過程。

Photo:光刻，將圖形從光罩上成像到光阻上的過程。

Reticle：也稱為Mask，光掩模板或者光照，曝光過程中的原始圖形的載體，通過曝光過程，這些圖形的信息將被傳遞到芯片上。

Pellicle：光罩護膜，是Reticle上為了防止灰塵（dust）或者微塵粒子（Particle）落在光罩的圖形面上的一層保護膜。

Overlay：迭對測量儀，由于集成電路是由很多蹭電路重疊組成的，因此必須保證每一層與前面或者后面的層的對準精度，如果對準精度超出要求范圍內，則可能造成整個電路不能完成設計的工作。因此在每一層的制作的過程中，要對其與前層的對準精度進行測量，如果測量值超出要求，則必須采取相應的措施調整process condition。

Photo Overlay檢查的Site是每片20個點。

Overlay的測量：Wafer被送進Overlay機臺中，先確定Wafer的位置從而找到Overlay Mark，這個Mark是一個方塊IN方塊的結構，大方塊是前層，小方塊是當層。通過小方塊是否在大方塊中心來確定Ovelay的好壞。　

清潔反應室chamble：

晶圓傳片機Wafer Sorter Products：全自動晶圓傳片機，主要用于晶圓的傳送、定位和排序。可實現對晶圓缺口的檢測并依據缺口位置對晶圓進行定位。配備高精度CCD傳感器及圖像處理軟件，可對晶圓ID刻號進行識別與讀取；

參考鏈接

https://wenku.baidu.com/view/5208260d9fc3d5bbfd0a79563c1ec5da50e2d688.html?re=view

總結

以上是生活随笔為你收集整理的半导体FAB里基本的常识简介的全部內容，希望文章能夠幫你解決所遇到的問題。

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