3月29日，清華大學設備采購信息平臺發布了一則等離子體刻蝕機采購項目的公開招標公告。

據介紹，該等離子體刻蝕機將用于刻蝕薄膜鈮酸鋰晶圓，從而加工基于薄膜鈮酸鋰晶圓的電光器件。

技術指標要求：

－ 真空系統：分子泵抽速≥1300L/s、干泵抽速≥100m3/h；

－ 下電極：滿足8英寸(200mm)樣品刻蝕需要，更小樣品或碎片可貼片裝載；

－ 軟件和控制系統：要求自主版權的軟件、Windows操作系統軟件；

－ 機臺工藝能力：主要用于刻蝕薄膜鈮酸鋰材料、介質材料等。

等離子刻蝕機，又叫等離子蝕刻機、等離子平面刻蝕機、等離子體刻蝕機、等離子表面處理儀、等離子清洗系統等。

等離子刻蝕是干法刻蝕中最常見的一種形式，其原理是暴露在電子區域的氣體形成等離子體，由此產生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體，從而形成了等離子或離子，電離氣體原子通過電場加速時，會釋放足夠的力量與表面驅逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。

總結

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