日前傳出ASML新一代光刻機EXE:5000跳票到2025年之后的消息，但似乎荷蘭人已經(jīng)找到幫手幫自己提速。

日本最大半導(dǎo)體成膜、蝕刻設(shè)備公司東京電子（東京威力科創(chuàng)，Tokyo Electron）宣布，將在鍍膜/顯影技術(shù)上與ASML合作，以聯(lián)合推進其下一代NA EUV光刻機的研制，確保2023年投入運行。

據(jù)悉，參與該EUV光刻機研發(fā)的還有IMEC，即位于比利時的歐洲微電子中心。

東京電子表示，自旋金屬抗蝕劑已顯示出高分辨率和高蝕刻電阻，并有望使圖案更加精細。然而，含有金屬的抗蝕劑也需要復(fù)雜的圖案尺寸控制以及對晶片背面/斜面金屬污染的較好控制。為了應(yīng)對這些挑戰(zhàn)，涂層/開發(fā)人員正在聯(lián)合高NA實驗室安裝先進的工藝模塊，能夠處理含金屬的抗蝕劑。

有觀點將當(dāng)前ASML已經(jīng)出貨的NXE：3400B/3400C乃至年底的3600D稱作第一代EUV光刻機，依據(jù)是物鏡的NA（數(shù)值孔徑）為0.33，所謂下一代也就是第二代的NA提升到0.55。0.55NA比0.33NA有著太多優(yōu)勢，包括更高的對比度、圖形曝光更低的成本、更高的生產(chǎn)效率等。

EXE：5000之后還有EXE:5200，它們將是2nm、1nm的主要依托。

總結(jié)

以上是生活随笔為你收集整理的ASML拒绝新一代EUV光刻机跳票：找到日本巨头技术驰援的全部內(nèi)容，希望文章能夠幫你解決所遇到的問題。

如果覺得生活随笔網(wǎng)站內(nèi)容還不錯，歡迎將生活随笔推薦給好友。